সিলিকন একক ক্রিস্টাল টানার জন্য ক্রুসিবল

ভূমিকা:

1. উপাদান নির্বাচন: যেহেতু ফটোভোলটাইক শিল্পে সিলিকন একক ক্রিস্টালের বিশুদ্ধতার জন্য খুব উচ্চ প্রয়োজনীয়তা রয়েছে, তাই ফটোভোলটাইক শিল্পে সিলিকন একক স্ফটিকগুলি টানার জন্য ক্রুসিবলগুলি সাধারণত উচ্চ-বিশুদ্ধতা গ্রাফাইট সামগ্রী ব্যবহার করে। এই গ্রাফাইট ক্রুসিবলগুলিতে অত্যন্ত উচ্চ বিশুদ্ধতা এবং কম অপরিষ্কার সামগ্রী থাকা প্রয়োজন যাতে উত্পাদিত সিলিকন একক ক্রিস্টালগুলির অশুদ্ধতার ঘনত্ব কম থাকে, যার ফলে সৌর কোষগুলির দক্ষতা উন্নত হয়।

2. বিশুদ্ধতা নিয়ন্ত্রণ: ফটোভোলটাইক শিল্পে সিলিকন একক স্ফটিক টানার জন্য ক্রুসিবলের বিশুদ্ধতা উত্পাদন প্রক্রিয়ার সময় কঠোরভাবে নিয়ন্ত্রণ করা প্রয়োজন। ক্রুসিবলের ভিতরে বিশুদ্ধতা নিশ্চিত করতে এবং অমেধ্যের উপস্থিতি কমাতে নির্মাতারা সাধারণত বিভিন্ন পদ্ধতি গ্রহণ করে, যেমন উচ্চ-তাপমাত্রার গ্রাফাইট তাপ চিকিত্সা, রাসায়নিক পরিষ্কার এবং বিশেষ আবরণ।

3. গলিত পুলের আকৃতি নিয়ন্ত্রণ: ফটোভোলটাইক শিল্পে সিলিকন একক ক্রিস্টাল টানার জন্য ক্রুসিবলগুলির গলিত পুলের আকৃতির উপর ভাল নিয়ন্ত্রণ থাকা দরকার। এটি নিশ্চিত করার জন্য যে সিলিকন উপাদানগুলি গলে যাওয়া এবং বৃদ্ধির প্রক্রিয়ার সময় একটি স্থিতিশীল আকৃতি বজায় রাখতে পারে, যাতে উচ্চ-মানের সিলিকন একক স্ফটিক পেতে পারে। প্রয়োজনীয় গলে যাওয়া পুল আকৃতি নিয়ন্ত্রণ অর্জনের জন্য বিশেষ ক্রুসিবল ডিজাইন এবং নীচের আকারগুলি গ্রহণ করা যেতে পারে।

4. তাপমাত্রার অভিন্নতা: ফোটোভোলটাইক শিল্পে সিলিকন একক স্ফটিক টানার জন্য ক্রুসিবলের ভাল তাপ পরিবাহিতা থাকা প্রয়োজন যাতে ক্রুসিবলের ভিতরে অভিন্ন তাপমাত্রা বন্টন নিশ্চিত করা যায়। এটি সিলিকন একক স্ফটিকগুলির অভিন্নতা উন্নত করতে এবং অমেধ্য এবং ত্রুটিগুলির গঠন হ্রাস করতে সহায়তা করে।

5. জারা প্রতিরোধের এবং তাপ প্রতিরোধের: ফটোভোলটাইক শিল্পে ব্যবহৃত সিলিকন একক ক্রিস্টাল ক্রুসিবলগুলির ভাল জারা প্রতিরোধের এবং তাপ প্রতিরোধের প্রয়োজন যাতে উচ্চ তাপমাত্রায় সিলিকন পদার্থের সংস্পর্শে থাকা রাসায়নিক বিক্রিয়াগুলি ঘটতে পারে। এটি ক্রুসিবলের স্থিতিশীলতা এবং দীর্ঘমেয়াদী নির্ভরযোগ্যতা বজায় রাখতে সহায়তা করে।