একক ক্রিস্টাল ফার্নেসের গরম ক্ষেত্রের জন্য গ্রাফাইট আনুষাঙ্গিক

 ভূমিকা:

1. উপাদান নির্বাচন: ফটোভোলটাইক শিল্পে একক ক্রিস্টাল ফার্নেসের তাপ ক্ষেত্রের জন্য গ্রাফাইট আনুষাঙ্গিকগুলি সাধারণত উচ্চ-বিশুদ্ধ গ্রাফাইট উপকরণ ব্যবহার করে। উচ্চ তাপমাত্রার পরিবেশে তাপ ক্ষেত্রের স্থায়িত্ব এবং স্থায়িত্ব নিশ্চিত করতে এই গ্রাফাইট আনুষাঙ্গিকগুলির উচ্চ বিশুদ্ধতা, কম অপরিচ্ছন্নতা সামগ্রী এবং চমৎকার তাপ পরিবাহিতা থাকা প্রয়োজন।

2. তাপীয় ক্ষেত্রের নকশা: একক ক্রিস্টাল ফার্নেসের তাপ ক্ষেত্রের জন্য গ্রাফাইট আনুষাঙ্গিকগুলির নকশাকে তাপ ক্ষেত্রের অভিন্নতা এবং স্থায়িত্ব বিবেচনা করতে হবে। সিলিকন একক ক্রিস্টাল চুল্লিতে সমানভাবে উত্তপ্ত হয় এবং একটি সামঞ্জস্যপূর্ণ তাপমাত্রা বন্টন পায় তা নিশ্চিত করার জন্য গ্রাফাইট আনুষাঙ্গিকগুলির আকৃতি এবং গঠন তাপ ক্ষেত্রের পরিবাহন এবং বিতরণে একটি গুরুত্বপূর্ণ ভূমিকা পালন করে।

3. তাপ পরিবাহিতা: ফটোভোলটাইক শিল্পে একক ক্রিস্টাল ফার্নেসের তাপীয় ক্ষেত্রের জন্য গ্রাফাইট আনুষাঙ্গিকগুলির দক্ষ তাপ পরিবাহিতা এবং অভিন্ন তাপমাত্রা বন্টন প্রদানের জন্য ভাল তাপ পরিবাহিতা থাকা প্রয়োজন। এটি নিশ্চিত করতে সাহায্য করে যে সিলিকন একক ক্রিস্টাল চুল্লিতে বৃদ্ধির প্রক্রিয়া জুড়ে সমানভাবে উত্তপ্ত হয় এবং স্ফটিক মানের উপর তাপমাত্রা গ্রেডিয়েন্টের প্রভাব কমায়।

4. উচ্চ তাপমাত্রা প্রতিরোধের: যেহেতু একক ক্রিস্টাল ফার্নেসের বৃদ্ধির তাপমাত্রা সাধারণত বেশি থাকে, তাই ফটোভোলটাইক শিল্পে একক ক্রিস্টাল ফার্নেসের তাপ ক্ষেত্রের জন্য গ্রাফাইট আনুষাঙ্গিকগুলির ভাল উচ্চ তাপমাত্রা প্রতিরোধের প্রয়োজন। দীর্ঘমেয়াদী স্থিতিশীল অপারেশন নিশ্চিত করতে তাদের উচ্চ তাপমাত্রার পরিবেশে কাঠামোগত স্থিতিশীলতা এবং যান্ত্রিক শক্তি বজায় রাখতে সক্ষম হওয়া উচিত।

5. জারা প্রতিরোধের: ফটোভোলটাইক শিল্পে একক ক্রিস্টাল ফার্নেসের তাপ ক্ষেত্রের জন্য গ্রাফাইট আনুষাঙ্গিকগুলিরও সিলিকন পদার্থ এবং অন্যান্য রাসায়নিকের সংস্পর্শে থাকা রাসায়নিক প্রতিক্রিয়াগুলির সাথে মোকাবিলা করার জন্য ভাল জারা প্রতিরোধের প্রয়োজন। এটি গ্রাফাইট আনুষাঙ্গিক স্থিতিশীলতা এবং জীবন বজায় রাখতে সাহায্য করে।