বর্ণনা
SiC আবরণ সহ সেমিকোরেক্স ওয়েফার ক্যারিয়ারগুলি অসাধারণ তাপীয় স্থিতিশীলতা এবং পরিবাহিতা প্রদান করে, CVD প্রক্রিয়ার সময় অভিন্ন তাপ বিতরণ নিশ্চিত করে, উচ্চ-মানের পাতলা ফিল্ম এবং আবরণ বৈশিষ্ট্যগুলির জন্য গুরুত্বপূর্ণ।
মূল বৈশিষ্ট্য:
1. অসামান্য তাপীয় স্থিতিশীলতা এবং পরিবাহিতাআমাদের SiC-কোটেড ওয়েফার ক্যারিয়ারগুলি স্থিতিশীল এবং সামঞ্জস্যপূর্ণ তাপমাত্রা বজায় রাখতে পারদর্শী, যা CVD প্রক্রিয়াগুলির জন্য গুরুত্বপূর্ণ। এটি অভিন্ন তাপ বিতরণ নিশ্চিত করে, যা উচ্চতর পাতলা ফিল্ম এবং আবরণ গুণমানের দিকে পরিচালিত করে।
2. নির্ভুলতা উত্পাদনপ্রতিটি ওয়েফার ক্যারিয়ার অভিন্ন বেধ এবং পৃষ্ঠের মসৃণতা নিশ্চিত করে মানদণ্ড অনুযায়ী তৈরি করা হয়। সামগ্রিক উত্পাদন গুণমান উন্নত করে একাধিক ওয়েফার জুড়ে সামঞ্জস্যপূর্ণ জমার হার এবং ফিল্ম বৈশিষ্ট্য অর্জনের জন্য এই নির্ভুলতা গুরুত্বপূর্ণ।
3. অপবিত্রতা বাধাSiC আবরণ একটি অভেদ্য বাধা হিসাবে কাজ করে, সাসেপ্টর থেকে ওয়েফারের মধ্যে অমেধ্যের বিস্তার রোধ করে। এটি দূষণের ঝুঁকি কমিয়ে দেয়, যা উচ্চ-বিশুদ্ধতার সেমিকন্ডাক্টর ডিভাইস তৈরির জন্য গুরুত্বপূর্ণ।
4. স্থায়িত্ব এবং খরচ দক্ষতাশক্তিশালী নির্মাণ এবং SiC আবরণ ওয়েফার ক্যারিয়ারের স্থায়িত্ব বাড়ায়, সাসেপ্টর প্রতিস্থাপনের ফ্রিকোয়েন্সি হ্রাস করে। এটি কম রক্ষণাবেক্ষণের খরচ এবং ন্যূনতম ডাউনটাইম বাড়ে, সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদন ক্রিয়াকলাপগুলির দক্ষতা বৃদ্ধি করে।
5. কাস্টমাইজেশন বিকল্পSiC আবরণ সহ সেমিকোরেক্স ওয়েফার ক্যারিয়ারগুলি আকার, আকৃতি এবং আবরণের বেধের বৈচিত্র সহ নির্দিষ্ট প্রক্রিয়ার প্রয়োজনীয়তাগুলি পূরণ করতে কাস্টমাইজ করা যেতে পারে। এই নমনীয়তা বিভিন্ন সেমিকন্ডাক্টর ফ্যাব্রিকেশন প্রক্রিয়ার অনন্য চাহিদা মেলে সাসেপ্টরের অপ্টিমাইজেশনের জন্য অনুমতি দেয়। কাস্টমাইজেশন বিকল্পগুলি বিশেষায়িত অ্যাপ্লিকেশনগুলির জন্য তৈরি সাসেপ্টর ডিজাইনগুলির বিকাশকে সক্ষম করে, যেমন উচ্চ-ভলিউম উত্পাদন বা গবেষণা এবং বিকাশ, নির্দিষ্ট ব্যবহারের ক্ষেত্রে সর্বোত্তম কার্যকারিতা নিশ্চিত করে।
অ্যাপ্লিকেশন:
SiC আবরণ সহ সেমিসেরা ওয়েফার ক্যারিয়ারগুলি এর জন্য আদর্শভাবে উপযুক্ত:
• অর্ধপরিবাহী পদার্থের এপিটাক্সিয়াল বৃদ্ধি
• রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD) প্রক্রিয়া
• উচ্চ মানের সেমিকন্ডাক্টর ওয়েফার উত্পাদন
• উন্নত সেমিকন্ডাক্টর ম্যানুফ্যাকচারিং অ্যাপ্লিকেশন