CVD TaC আবরণ

CVD TaC আবরণ পরিচিতি:

CVD TaC আবরণ হল এমন একটি প্রযুক্তি যা একটি সাবস্ট্রেটের পৃষ্ঠে ট্যানটালাম কার্বাইড (TaC) আবরণ জমা করতে রাসায়নিক বাষ্প জমা ব্যবহার করে। ট্যানটালাম কার্বাইড চমৎকার যান্ত্রিক এবং রাসায়নিক বৈশিষ্ট্য সহ একটি উচ্চ-কর্মক্ষমতা সম্পন্ন সিরামিক উপাদান। CVD প্রক্রিয়া গ্যাস বিক্রিয়ার মাধ্যমে সাবস্ট্রেটের পৃষ্ঠে একটি অভিন্ন TaC ফিল্ম তৈরি করে।

প্রধান বৈশিষ্ট্য:

চমৎকার কঠোরতা এবং পরিধান প্রতিরোধের: ট্যানটালাম কার্বাইড অত্যন্ত উচ্চ কঠোরতা আছে, এবং CVD TaC আবরণ উল্লেখযোগ্যভাবে সাবস্ট্রেটের পরিধান প্রতিরোধের উন্নতি করতে পারে। এটি লেপটিকে উচ্চ-পরিধানের পরিবেশে প্রয়োগের জন্য আদর্শ করে তোলে, যেমন কাটার সরঞ্জাম এবং ছাঁচ।

উচ্চ তাপমাত্রা স্থায়িত্ব: TaC আবরণগুলি 2200°C পর্যন্ত তাপমাত্রায় গুরুত্বপূর্ণ চুল্লি এবং চুল্লির উপাদানগুলিকে রক্ষা করে, ভাল স্থিতিশীলতা প্রদর্শন করে৷ এটি চরম তাপমাত্রার অবস্থার অধীনে রাসায়নিক এবং যান্ত্রিক স্থিতিশীলতা বজায় রাখে, এটি উচ্চ-তাপমাত্রা প্রক্রিয়াকরণ এবং উচ্চ-তাপমাত্রার পরিবেশে অ্যাপ্লিকেশনের জন্য উপযুক্ত করে তোলে।

চমৎকার রাসায়নিক স্থিতিশীলতা: ট্যানটালাম কার্বাইডের বেশিরভাগ অ্যাসিড এবং ক্ষারগুলির শক্তিশালী জারা প্রতিরোধ ক্ষমতা রয়েছে এবং CVD TaC আবরণ ক্ষয়কারী পরিবেশে সাবস্ট্রেটের ক্ষতিকে কার্যকরভাবে প্রতিরোধ করতে পারে।

উচ্চ গলনাঙ্ক: ট্যানটালাম কার্বাইডের একটি উচ্চ গলনাঙ্ক রয়েছে (প্রায় 3880°C), CVD TaC আবরণকে গলে বা অবনমিত না করে চরম উচ্চ তাপমাত্রার পরিস্থিতিতে ব্যবহার করার অনুমতি দেয়।

চমৎকার তাপ পরিবাহিতা: TaC আবরণ উচ্চ তাপ পরিবাহিতা আছে, যা কার্যকরভাবে উচ্চ-তাপমাত্রা প্রক্রিয়ায় তাপ নষ্ট করতে সাহায্য করে এবং স্থানীয় অতিরিক্ত উত্তাপ প্রতিরোধ করে।

সম্ভাব্য অ্যাপ্লিকেশন:

• গ্যালিয়াম নাইট্রাইড (GaN) এবং সিলিকন কার্বাইড এপিটাক্সিয়াল CVD চুল্লির উপাদানগুলি সহ ওয়েফার ক্যারিয়ার, স্যাটেলাইট ডিশ, শাওয়ারহেড, সিলিং এবং সাসেপ্টর

• সিলিকন কার্বাইড, গ্যালিয়াম নাইট্রাইড এবং অ্যালুমিনিয়াম নাইট্রাইড (AlN) ক্রুসিবল, বীজ ধারক, গাইড রিং এবং ফিল্টার সহ স্ফটিক বৃদ্ধির উপাদান

• রেজিস্ট্যান্স হিটিং উপাদান, ইনজেকশন অগ্রভাগ, মাস্কিং রিং এবং ব্রেজিং জিগস সহ শিল্প উপাদান

অ্যাপ্লিকেশন বৈশিষ্ট্য:

• তাপমাত্রা 2000 ডিগ্রি সেলসিয়াসের উপরে স্থিতিশীল, চরম তাপমাত্রায় কাজ করার অনুমতি দেয়
• হাইড্রোজেন (Hz), অ্যামোনিয়া (NH3), মনোসিলেন (SiH4) এবং সিলিকন (Si) প্রতিরোধী, কঠোর রাসায়নিক পরিবেশে সুরক্ষা প্রদান করে
• এর তাপীয় শক প্রতিরোধ ক্ষমতা দ্রুত অপারেটিং চক্র সক্ষম করে
• গ্রাফাইটের দৃঢ় আনুগত্য রয়েছে, দীর্ঘ পরিষেবা জীবন নিশ্চিত করে এবং কোন আবরণ বিচ্ছিন্ন হয় না।
• অপ্রয়োজনীয় অমেধ্য বা দূষিত পদার্থ দূর করতে অতি-উচ্চ বিশুদ্ধতা
• আঁট মাত্রিক সহনশীলতা কনফরমাল আবরণ কভারেজ

প্রযুক্তিগত বৈশিষ্ট্য:

CVD দ্বারা ঘন ট্যানটালাম কার্বাইড আবরণের প্রস্তুতি：

উচ্চ স্ফটিকতা এবং চমৎকার অভিন্নতা সহ TAC আবরণ:

CVD TAC আবরণ প্রযুক্তিগত পরামিতি_সেমিসেরা:

উপরেরটি সাধারণ মান.