সিলিকন কার্বাইড স্ফটিক বৃদ্ধির জন্য তাপীয় ক্ষেত্রের উপাদান - ছিদ্রযুক্ত ট্যানটালাম কার্বাইড

সংক্ষিপ্ত বর্ণনা:

ছিদ্রযুক্ত ট্যানটালাম কার্বাইড প্রধানত গ্যাস ফেজ উপাদান পরিস্রাবণ, স্থানীয় তাপমাত্রা গ্রেডিয়েন্ট সামঞ্জস্য, উপাদান প্রবাহের দিক নির্দেশনা, ফুটো নিয়ন্ত্রণ ইত্যাদির জন্য ব্যবহৃত হয়। এটি স্থানীয় উপাদান তৈরি করতে সেমিসেরা প্রযুক্তি থেকে অন্য একটি কঠিন ট্যানটালাম কার্বাইড (কম্প্যাক্ট) বা ট্যানটালাম কার্বাইড আবরণের সাথে ব্যবহার করা যেতে পারে। বিভিন্ন প্রবাহ পরিবাহিতা সহ।

আমাদের ইমেইল পাঠান

পণ্য বিস্তারিত

পণ্য ট্যাগ

সেমিসেরা বিভিন্ন উপাদান এবং বাহকের জন্য বিশেষায়িত ট্যানটালাম কার্বাইড (TaC) আবরণ সরবরাহ করে।সেমিসেরা লিডিং লেপ প্রক্রিয়া ট্যান্টালম কার্বাইড (TaC) আবরণগুলিকে উচ্চ বিশুদ্ধতা, উচ্চ তাপমাত্রা স্থিতিশীলতা এবং উচ্চ রাসায়নিক সহনশীলতা অর্জন করতে সক্ষম করে, SIC/GAN স্ফটিক এবং EPI স্তরগুলির পণ্যের গুণমান উন্নত করে (গ্রাফাইট প্রলিপ্ত TaC সাসেপ্টর), এবং মূল চুল্লি উপাদানের আয়ু বাড়ানো। ট্যানটালাম কার্বাইড TaC আবরণ ব্যবহার হল প্রান্ত সমস্যা সমাধান এবং স্ফটিক বৃদ্ধির গুণমান উন্নত করা, এবং সেমিসেরা যুগান্তকারী সমাধান করেছে ট্যান্টালম কার্বাইড লেপ প্রযুক্তি (CVD), আন্তর্জাতিক উন্নত স্তরে পৌঁছেছে।

বছরের পর বছর বিকাশের পর, সেমিসেরা এর প্রযুক্তিকে জয় করেছেCVD TaCR&D বিভাগের যৌথ প্রচেষ্টায়। SiC ওয়েফারের বৃদ্ধি প্রক্রিয়ায় ত্রুটিগুলি ঘটতে সহজ, কিন্তু ব্যবহারের পরেTaC, পার্থক্য উল্লেখযোগ্য. নীচে TaC সহ এবং ছাড়া ওয়েফারগুলির তুলনা করা হয়েছে, সেইসাথে একক স্ফটিক বৃদ্ধির জন্য সেমিসিরার অংশগুলি

বৃদ্ধি একক স্ফটিক জন্য Tac অংশ

অ্যান্টিওয়্যার ট্যানটালাম কার্বাইড আবরণ_ পরিধান এবং ক্ষয় থেকে সরঞ্জাম রক্ষা করে বৈশিষ্ট্যযুক্ত চিত্র

TaC প্রলিপ্ত রিং সহ গ্রাফাইট

TaC সহ এবং ছাড়া

TaC ব্যবহার করার পর (ডানে)

উপরন্তু, Semicera এর TaC আবরণ পণ্যের পরিষেবা জীবন দীর্ঘ এবং SiC আবরণের তুলনায় উচ্চ তাপমাত্রার প্রতিরোধী। ল্যাবরেটরি পরিমাপের ডেটার দীর্ঘ সময় পরে, আমাদের TaC সর্বোচ্চ 2300 ডিগ্রি সেলসিয়াসে দীর্ঘ সময়ের জন্য কাজ করতে পারে। আমাদের কিছু নমুনা নিচে দেওয়া হল: