আইসোস্ট্যাটিক চাপা গ্রাফাইট একটি নতুন ধরনের গ্রাফাইট উপাদান, যার চমৎকার বৈদ্যুতিক পরিবাহিতা, উচ্চ তাপমাত্রা প্রতিরোধের এবং রাসায়নিক স্থিতিশীলতা রয়েছে, তাই এটি অনেক উচ্চ প্রযুক্তির ক্ষেত্রে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়।এই কাগজটি আইসোস্ট্যাটিক চাপা গ্রাফাইটের উত্পাদন প্রক্রিয়া, প্রধান ব্যবহার এবং ভবিষ্যতের বিকাশের প্রবণতা বিশদভাবে উপস্থাপন করবে।
আইসোস্ট্যাটিক চাপা গ্রাফাইটের উৎপাদন প্রক্রিয়া
আইসোস্ট্যাটিক গ্রাফাইটের উত্পাদন প্রক্রিয়াতে প্রধানত নিম্নলিখিত পদক্ষেপগুলি অন্তর্ভুক্ত রয়েছে:
1. কাঁচামাল তৈরি: আইসোস্ট্যাটিক চাপা গ্রাফাইটের কাঁচামালের মধ্যে রয়েছে সমষ্টি এবং বাইন্ডার।সমষ্টি সাধারণত পেট্রোলিয়াম কোক বা অ্যাসফল্ট কোক দিয়ে তৈরি হয়, যা ব্যবহার করার আগে আর্দ্রতা এবং উদ্বায়ী অপসারণের জন্য 1200 ~ 1400℃ এ ক্যালসাইন করা প্রয়োজন।বাইন্ডারটি কয়লা পিচ বা পেট্রোলিয়াম পিচ দিয়ে তৈরি, যা উপাদানটির আইসোট্রপি নিশ্চিত করতে সমষ্টির সাথে সিঙ্ক্রোনাসভাবে প্রসারিত এবং সংকুচিত হয়।
2. গ্রাইন্ডিং: কাঁচামাল একটি সূক্ষ্ম পাউডার তৈরি করা হয়, যার জন্য সাধারণত মোট আকার 20um বা তার কম পৌঁছাতে হয়।সর্বোত্তম আইসোস্ট্যাটিকভাবে চাপা গ্রাফাইট, যার সর্বোচ্চ কণা ব্যাস 1μm, খুব সূক্ষ্ম।
3. কোল্ড আইসোস্ট্যাটিক প্রেসিং: ঠাণ্ডা আইসোস্ট্যাটিক প্রেসিং মেশিনে গ্রাউন্ড পাউডার রাখুন এবং উচ্চ চাপে তৈরি করতে এটি টিপুন।
4. রোস্টিং: ছাঁচে তৈরি গ্রাফাইটটিকে একটি বেকিং ফার্নেসের মধ্যে রাখা হয় এবং গ্রাফিটাইজেশনের মাত্রা আরও উন্নত করার জন্য উচ্চ তাপমাত্রায় ভাজা হয়।
5. গর্ভধারণ-রোস্টিং চক্র: লক্ষ্য ঘনত্ব অর্জনের জন্য, একাধিক গর্ভধারণ-রোস্টিং চক্র প্রয়োজন।প্রতিটি চক্র গ্রাফাইটের ঘনত্ব বাড়ায়, উচ্চ শক্তি এবং বৈদ্যুতিক পরিবাহিতা অর্জন করে।
আইসোস্ট্যাটিক গ্রাফাইটের প্রধান ব্যবহারগুলির মধ্যে নিম্নলিখিতগুলি অন্তর্ভুক্ত রয়েছে:
1. ইলেকট্রনিক ক্ষেত্র: আইসোস্ট্যাটিকভাবে চাপা গ্রাফাইট এর চমৎকার বৈদ্যুতিক পরিবাহিতা কারণে ইলেকট্রনিক্স ক্ষেত্রে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়।বিশেষ করে ব্যাটারি, ইলেক্ট্রোড, সেমিকন্ডাক্টর ডিভাইস ইত্যাদি ক্ষেত্রে, এর চমৎকার বৈদ্যুতিক পরিবাহিতা আইসোস্ট্যাটিক চাপা গ্রাফাইটকে একটি অপরিহার্য উপাদান করে তোলে।
2. মহাকাশ ক্ষেত্র: আইসোস্ট্যাটিক চাপা গ্রাফাইটের উচ্চ তাপমাত্রা প্রতিরোধের, রাসায়নিক স্থিতিশীলতা এবং উচ্চ শক্তির বৈশিষ্ট্য রয়েছে, তাই এটি মহাকাশ ক্ষেত্রে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়।উদাহরণস্বরূপ, রকেট ইঞ্জিন এবং স্পেস প্রোবগুলিতে, উচ্চ তাপমাত্রা, উচ্চ চাপের পরিস্থিতিতে বৈদ্যুতিকভাবে পরিবাহী উপাদানগুলি তৈরি করতে আইসোস্ট্যাটিকভাবে চাপা গ্রাফাইট ব্যবহার করা হয়।
3. স্বয়ংচালিত ক্ষেত্র: স্বয়ংচালিত ক্ষেত্রে আইসোস্ট্যাটিক চাপা গ্রাফাইট ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়।উদাহরণস্বরূপ, ব্যাটারির ক্ষেত্রে, উচ্চ-ক্ষমতাসম্পন্ন ব্যাটারি ইলেক্ট্রোড তৈরি করতে আইসোস্ট্যাটিকভাবে চাপা গ্রাফাইট ব্যবহার করা হয়।এছাড়াও, স্বয়ংচালিত ইঞ্জিনের উপাদানগুলিতে, আইসোস্ট্যাটিক প্রেসড গ্রাফাইট উচ্চ তাপমাত্রা এবং উচ্চ চাপের পরিস্থিতিতে সীল তৈরি এবং অংশগুলি পরিধান করতেও ব্যবহৃত হয়।
4. অন্যান্য ক্ষেত্র: উপরের ক্ষেত্রগুলি ছাড়াও, আইসোস্ট্যাটিক গ্রাফাইট ব্যাপকভাবে শক্তি, রাসায়নিক শিল্প, ধাতুবিদ্যা এবং অন্যান্য ক্ষেত্রে ব্যবহৃত হয়।উদাহরণস্বরূপ, সৌর কোষের ক্ষেত্রে, আইসোস্ট্যাটিকভাবে চাপা গ্রাফাইট অত্যন্ত দক্ষ ইলেক্ট্রোড এবং পরিবাহী সাবস্ট্রেট তৈরি করতে ব্যবহৃত হয়।রাসায়নিক শিল্পে, আইসোস্ট্যাটিকভাবে চাপা গ্রাফাইট উচ্চ জারা প্রতিরোধের সাথে পাইপ এবং পাত্র তৈরি করতে ব্যবহৃত হয়।ধাতুবিদ্যায়, উচ্চ তাপমাত্রার চুলা এবং ইলেক্ট্রোড তৈরি করতে আইসোস্ট্যাটিকভাবে চাপা গ্রাফাইট ব্যবহার করা হয়।
একটি নতুন ধরনের গ্রাফাইট উপাদান হিসাবে, আইসোস্ট্যাটিক চাপা গ্রাফাইটের বিস্তৃত ব্যবহার এবং গুরুত্বপূর্ণ মান রয়েছে।এর উৎপাদন প্রক্রিয়া জটিল এবং সূক্ষ্ম, এবং সম্পূর্ণ করতে একাধিক ধাপ অতিক্রম করতে হবে।যাইহোক, এই জটিল প্রক্রিয়ার ধাপগুলিই আইসোস্ট্যাটিকভাবে চাপা গ্রাফাইটের চমৎকার বৈশিষ্ট্য এবং ব্যাপক প্রয়োগের সম্ভাবনা তৈরি করে।ভবিষ্যতে, বিজ্ঞান ও প্রযুক্তির ক্রমাগত অগ্রগতি এবং অ্যাপ্লিকেশন ক্ষেত্রগুলির সম্প্রসারণের সাথে, আইসোস্ট্যাটিক চাপা গ্রাফাইট আরও ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত এবং প্রচার করা হবে।একই সময়ে, উত্পাদন প্রক্রিয়া এবং প্রযুক্তির গবেষণা এবং উন্নতিও গবেষণার কেন্দ্রবিন্দু হয়ে উঠবে।এটা বিশ্বাস করা হয় যে অদূর ভবিষ্যতে, আইসোস্ট্যাটিক গ্রাফাইট আমাদের আরও বিস্ময় এবং সম্ভাবনা নিয়ে আসবে।
পোস্টের সময়: ডিসেম্বর-০৬-২০২৩