সিলিকন কার্বাইড সাবস্ট্রেটস|SiC Wafers

ছোট বিবরণ:

WeiTai Energy Technology Co., Ltd. হল একটি নেতৃস্থানীয় সরবরাহকারী যা ওয়েফার এবং উন্নত সেমিকন্ডাক্টর ভোগ্যপণ্যে বিশেষজ্ঞ।আমরা সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদন, ফটোভোলটাইক শিল্প এবং অন্যান্য সম্পর্কিত ক্ষেত্রগুলিতে উচ্চ-মানের, নির্ভরযোগ্য এবং উদ্ভাবনী পণ্য সরবরাহ করতে নিবেদিত।

আমাদের পণ্য লাইনের মধ্যে রয়েছে SiC/TaC প্রলিপ্ত গ্রাফাইট পণ্য এবং সিরামিক পণ্য, বিভিন্ন উপকরণ যেমন সিলিকন কার্বাইড, সিলিকন নাইট্রাইড, এবং অ্যালুমিনিয়াম অক্সাইড এবং ইত্যাদি।

বর্তমানে, আমরাই একমাত্র প্রস্তুতকারক যারা বিশুদ্ধতা 99.9999% SiC আবরণ এবং 99.9% পুনঃক্রিস্টালাইজড সিলিকন কার্বাইড প্রদান করে।সর্বাধিক SiC আবরণ দৈর্ঘ্য আমরা 2640 মিমি করতে পারি।


পণ্য বিবরণী

পণ্য ট্যাগ

SiC-ওয়েফার

সিলিকন কার্বাইড (SiC) একক স্ফটিক উপাদানের একটি বড় ব্যান্ড গ্যাপ প্রস্থ (~Si 3 বার), উচ্চ তাপ পরিবাহিতা (~Si 3.3 বার বা GaAs 10 বার), উচ্চ ইলেক্ট্রন স্যাচুরেশন মাইগ্রেশন রেট (~Si 2.5 গুণ), উচ্চ ব্রেকডাউন বৈদ্যুতিক ক্ষেত্র (~Si 10 বার বা GaAs 5 বার) এবং অন্যান্য অসামান্য বৈশিষ্ট্য।

উচ্চ তাপমাত্রা, উচ্চ চাপ, উচ্চ ফ্রিকোয়েন্সি, উচ্চ শক্তির ইলেকট্রনিক ডিভাইস এবং মহাকাশ, সামরিক, পারমাণবিক শক্তি ইত্যাদির মতো চরম পরিবেশগত প্রয়োগের ক্ষেত্রে SiC ডিভাইসগুলির অপরিবর্তনীয় সুবিধা রয়েছে, ব্যবহারিক ক্ষেত্রে ঐতিহ্যবাহী সেমিকন্ডাক্টর উপাদান ডিভাইসগুলির ত্রুটিগুলি পূরণ করে। অ্যাপ্লিকেশন, এবং ধীরে ধীরে শক্তি সেমিকন্ডাক্টর মূলধারা হয়ে উঠছে.

4H-SiC সিলিকন কার্বাইড সাবস্ট্রেট স্পেসিফিকেশন

আইটেম项目

স্পেসিফিকেশন参数

পলিটাইপ
晶型

4H -SiC

6H- SiC

ব্যাস
晶圆直径

2 ইঞ্চি |3 ইঞ্চি |4 ইঞ্চি |6 ইঞ্চি

2 ইঞ্চি |3 ইঞ্চি |4 ইঞ্চি |6 ইঞ্চি

পুরুত্ব
厚度

330 μm ~ 350 μm

330 μm ~ 350 μm

পরিবাহিতা
导电类型

N - প্রকার / আধা-অন্তরক
N型导电片/ 半绝缘片

N - প্রকার / আধা-অন্তরক
N型导电片/ 半绝缘片

ডোপান্ট
掺杂剂

N2 ( নাইট্রোজেন ) V ( ভ্যানডিয়াম )

N2 ( নাইট্রোজেন ) V ( ভ্যানডিয়াম )

ওরিয়েন্টেশন
晶向

অক্ষে <0001>
অফ অক্ষ <0001> বন্ধ 4°

অক্ষে <0001>
অফ অক্ষ <0001> বন্ধ 4°

প্রতিরোধ ক্ষমতা
电阻率

0.015 ~ 0.03 ওহম-সেমি
(4H-N)

0.02 ~ 0.1 ওহম-সেমি
(6H-N)

মাইক্রোপাইপ ঘনত্ব (MPD)
微管密度

≤10/cm2 ~ ≤1/cm2

≤10/cm2 ~ ≤1/cm2

টিটিভি
总厚度变化

≤ 15 μm

≤ 15 μm

নম/ওয়ার্প
翘曲度

≤25 μm

≤25 μm

পৃষ্ঠতল
表面处理

ডিএসপি/এসএসপি

ডিএসপি/এসএসপি

শ্রেণী
产品等级

উত্পাদন / গবেষণা গ্রেড

উত্পাদন / গবেষণা গ্রেড

ক্রিস্টাল স্ট্যাকিং সিকোয়েন্স
堆积方式

এবিসিবি

ABCABC

ল্যাটিস প্যারামিটার
晶格参数

a=3.076A , c=10.053A

a=3.073A , c=15.117A

যেমন/eV(ব্যান্ড-গ্যাপ)
禁带宽度

3.27 eV

3.02 eV

ε (অস্তরক ধ্রুবক)
介电常数

9.6

৯.৬৬

প্রতিসরণ সূচক
折射率

n0 =2.719 ne =2.777

n0 =2.707 , ne =2.755

6H-SiC সিলিকন কার্বাইড সাবস্ট্রেট স্পেসিফিকেশন

আইটেম项目

স্পেসিফিকেশন参数

পলিটাইপ
晶型

6H-SiC

ব্যাস
晶圆直径

4 ইঞ্চি |6 ইঞ্চি

পুরুত্ব
厚度

350μm ~ 450μm

পরিবাহিতা
导电类型

N - প্রকার / আধা-অন্তরক
N型导电片/ 半绝缘片

ডোপান্ট
掺杂剂

N2 ( নাইট্রোজেন )
ভি ( ভ্যানডিয়াম)

ওরিয়েন্টেশন
晶向

<0001> ছাড় 4°± 0.5°

প্রতিরোধ ক্ষমতা
电阻率

0.02 ~ 0.1 ওহম-সেমি
(6H-N প্রকার)

মাইক্রোপাইপ ঘনত্ব (MPD)
微管密度

≤ 10/cm2

টিটিভি
总厚度变化

≤ 15 μm

নম/ওয়ার্প
翘曲度

≤25 μm

পৃষ্ঠতল
表面处理

সি ফেস: সিএমপি, এপি-রেডি
সি ফেস: অপটিক্যাল পোলিশ

শ্রেণী
产品等级

গবেষণা গ্রেড

সেমিসের কাজের জায়গা সেমিসের কর্মস্থল 2 সরঞ্জাম মেশিন সিএনএন প্রক্রিয়াকরণ, রাসায়নিক পরিষ্কার, সিভিডি আবরণ আমাদের সেবা


  • আগে:
  • পরবর্তী: