উচ্চ বিশুদ্ধতা, উচ্চ তাপমাত্রা স্থিতিশীলতা এবং উচ্চ রাসায়নিক প্রতিরোধের সাথে ট্যানটালাম কার্বাইড (TaC) আবরণ

ছোট বিবরণ:

TaC আবরণ হল একটি নতুন প্রজন্মের উচ্চ তাপমাত্রা প্রতিরোধী উপাদান, যা SiC-এর চেয়ে ভাল উচ্চ তাপমাত্রার স্থায়িত্ব সহ, একটি জারা প্রতিরোধী আবরণ হিসাবে, অক্সিডেশন প্রতিরোধী আবরণ, পরিধান প্রতিরোধী আবরণ, 2000℃ এর উপরে পরিবেশে ব্যবহার করা যেতে পারে, মহাকাশ মহাকাশে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়। উচ্চ তাপমাত্রা গরম শেষ অংশ, অর্ধপরিবাহী একক স্ফটিক বৃদ্ধি এবং অন্যান্য ক্ষেত্র তৃতীয় প্রজন্মের.

আমাদের ইমেইল পাঠান

পণ্য বিবরণী

পণ্য ট্যাগ

সেমিসেরা সেমিসেরা বিভিন্ন উপাদান এবং বাহকের জন্য বিশেষায়িত ট্যানটালাম কার্বাইড (TaC) আবরণ সরবরাহ করে।Semicera Semicera নেতৃস্থানীয় আবরণ প্রক্রিয়া ট্যানটালাম কার্বাইড (TaC) আবরণগুলিকে উচ্চ বিশুদ্ধতা, উচ্চ তাপমাত্রার স্থিতিশীলতা এবং উচ্চ রাসায়নিক সহনশীলতা অর্জন করতে সক্ষম করে, SIC/GAN স্ফটিক এবং EPI স্তরগুলির পণ্যের গুণমান উন্নত করে (গ্রাফাইট প্রলিপ্ত TaC সাসেপ্টর), এবং মূল চুল্লি উপাদানের আয়ু বাড়ানো।ট্যানটালাম কার্বাইড TaC আবরণ ব্যবহার প্রান্ত সমস্যা সমাধান এবং স্ফটিক বৃদ্ধির গুণমান উন্নত করা, এবং Semicera Semicera যুগান্তকারী সমাধান করেছে ট্যানটালাম কার্বাইড লেপ প্রযুক্তি (CVD), আন্তর্জাতিক উন্নত স্তরে পৌঁছেছে।

বছরের পর বছর বিকাশের পর, সেমিসেরা এর প্রযুক্তিকে জয় করেছেCVD TaCR&D বিভাগের যৌথ প্রচেষ্টায়।SiC ওয়েফারের বৃদ্ধি প্রক্রিয়ায় ত্রুটিগুলি ঘটতে সহজ, কিন্তু ব্যবহারের পরেTaC, পার্থক্য উল্লেখযোগ্য.নীচে TaC সহ এবং ছাড়া ওয়েফারগুলির তুলনা করা হয়েছে, সেইসাথে একক স্ফটিক বৃদ্ধির জন্য সিমিসেরার অংশগুলি

বৃদ্ধি একক স্ফটিক জন্য Tac অংশ

অ্যান্টিওয়্যার ট্যানটালাম কার্বাইড আবরণ_ পরিধান এবং ক্ষয় থেকে সরঞ্জাম রক্ষা করে বৈশিষ্ট্যযুক্ত চিত্র

TaC প্রলিপ্ত রিং সহ গ্রাফাইট

TaC সহ এবং ছাড়া

TaC ব্যবহার করার পর (ডানে)

উপরন্তু, Semicera এর TaC আবরণ পণ্যের পরিষেবা জীবন দীর্ঘ এবং SiC আবরণের তুলনায় উচ্চ তাপমাত্রার প্রতিরোধী।ল্যাবরেটরি পরিমাপের ডেটার দীর্ঘ সময় পরে, আমাদের TaC সর্বোচ্চ 2300 ডিগ্রি সেলসিয়াসে দীর্ঘ সময়ের জন্য কাজ করতে পারে।আমাদের কিছু নমুনা নিচে দেওয়া হল: